公司于2020年在北京、上海、海宁成立三家子公司。拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月，主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。
公司总部坐落于沈阳市浑南区，占地80亩，拥有现代化办公大楼及高等级洁净厂房，总建筑面积达40,000平方米。公司已通过ISO9001、ISO14001、ISO45001体系的认证，并拥有覆盖全球的供应商网络。拓荆工业机械设备官网第一期生产能力可实现年产100台套，全部投产可达350台套设备，可以满足下游客户增产需求。
公司在北京、上海、武汉、合肥、天津、台湾等20多个地区的近40条生产线都设有技术服务中心，为客户提供每周7天，每天24小时的技术服务。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，拥有自主知识产权，产品主要应用于集成电路晶圆制造，以及TSV封装、光波导、Micro-LED、OLED显示等技术领域。
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